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1. 本公司致力於先進的PECVD 鍍膜製程的研發與生產，特別是金屬材料基材上的應用，目前本公司可以提供鍍膜類別有 : 類鑽膜(DLC)、ESD 類鑽膜(ESD DLC)、碳化矽膜 ( SiC )、純矽膜(Pure Si)，厚度自5.0 μm~50μm 均可。
2. 本公司同時也可以在管件或類管件的內表面完成前述的各種膜層/膜厚，對於石油工業、半導體設備部件，一般傳統高附加價值的應用等提升大有裨益。
3. 品質政策 : 凡事慎始 / 顧客滿意 / 品質第一 / 持續改善..[更多內容]

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