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  • 矽膜層 ( Si , 99.99% ) 膜層 , 5 ~ 15 um
  • 矽膜層 ( Si , 99.99% ) 膜層 , 5 ~ 15 um

產品項目

  • 類鑽碳膜 ( DLC ) , 5 ~ 50 um
  • ESD DLC ( 符合 ESD 規範 DLC 膜層 ) , 5 ~ 20 um
  • 碳化矽 ( SiC ) 膜層 , 5 ~ 20 um
  • 矽膜層 ( Si , 99.99% ) 膜層 , 5 ~ 15 um
    • 矽膜層 ( Si , 99.99% ) 膜層 , 5 ~ 15 um
  • 軍事工程與處理
圖1

產品介紹

半導體零部件金屬表面 矽膜層 ( Si Coating ) 防止微粒(Particle)汙染/金屬(Metal)汙染

產品說明

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關於我們 ABOUT

1. 本公司致力於先進的PECVD 鍍膜製程的研發與生產，特別是金屬材料基材上的應用，目前本公司可以提供鍍膜類別有 : 類鑽膜(DLC)、ESD 類鑽膜(ESD DLC)、碳化矽膜 ( SiC )、純矽膜(Pure Si)，厚度自5.0 μm~50μm 均可。
2. 本公司同時也可以在管件或類管件的內表面完成前述的各種膜層/膜厚，對於石油工業、半導體設備部件，一般傳統高附加價值的應用等提升大有裨益。
3. 品質政策 : 凡事慎始 / 顧客滿意 / 品質第一 / 持續改善..[更多內容]

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